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Apple 風格全沒了?外媒:富士康疑外流 iPhone 8 全彩設計圖!

文/記者譚偉晟 2017-04-14 09:42

(圖/路透社)

在先前消息指出 Apple 設計團隊出現變化,也就是 Jony Ive 脫離產品硬體設計、Christopher Stringer 決定離職後,外界都擔心會導致下一代 iPhone 設計風格大變。而現在疑似從富士康內部流出的設計圖,似乎也說明了這個可能!

根據《9to5Mac》的報導,中國微博上出現了疑似從富士康內部流出的 iPhone 8 設計圖。從影像中可以看到,iPhone 8 可能會採用近似 Galaxy S8 的正面設計,而非如先前傳聞採用全正面螢幕、並取消前置相機的設計。

(圖/擷取自微博)

而被取消的正面 Home 鍵,則是可能會變成多數 Android 手機採用的後置指紋辨識器,此外位置不會是常見的上半部,而是在手機的背面中央,這是為了維持 Apple Logo 的躋身位置。

而雙鏡頭相機的部分,與先前傳出的設計草圖類似,也就是採用垂直雙鏡頭排列的方式。另外手機的厚度將低於 7.2mm,更薄於 iPhone 7 系列機種。然而 Apple 是否會採用這個設計,《9to5Mac》持保留態度。

(圖/Martin Hajek)

原因在於這個設計圖右上角的「EVT」字樣,EVT 所指的是工程驗證測試(Engineering Verification Test),被認為是 Apple 產品的開發初期階段,之後 Apple 還到需要進行 DVT 與 PVT 等階段,才會確認該裝置的設計。

由於目前消息多指向 Apple 正全力開發螢幕結合指紋辨識的技術,因此可能是 Apple 的備用方案。若是像三星(Samsung)一樣遭遇到技術開發困難,還能確保新 iPhone 可以透過不同形式向市場推出。

【延伸閱讀】
 iPhone 8 風格將大變?傳 Apple 首席設計師退出!

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